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什么是PCB光致成像工藝

發布者:永昌機械   發布時間:2016-7-15 9:42:28

    PCB光致成像工藝是對涂覆在印制電路板基材上的光致抗蝕劑進行曝光,使其硬度、附著力、溶解性與物理性質發生變化,經過顯影形成圖像的一種方法。
  印制電路板制造進行光化學圖像轉移的光致抗蝕劑主要有兩大類,一類是光致抗蝕干膜(簡稱干膜),其商品是一種光致成像型感光油墨;另一類是液體光致抗蝕劑,其又包括普通的液體光致抗劑和電沉積液體光致抗蝕劑(簡稱ED抗蝕劑),ED抗蝕劑是一種水基乳液。
  光致抗蝕劑是現代印制電路產業的基石。光致抗蝕干膜具有工藝流程簡單,對潔凈度要求不高和容易操作等特點。自問世以來,很快受到印制電路企業的歡迎。幾經改進和發展,現在已經在印制電路制造的光致成像工藝中占有大部分份額,成為主流產品。在光致抗蝕干膜出現之前,液體光致抗蝕劑便是當時成像技術的重要材料。由于應用中厚度不容易控制,操作速度慢以及因過程環境的清潔性和處理帶來板面的缺陷,限制了它的使用。在于膜問世后,曾一度被干膜工藝取代。但是,近年來隨著電子產品向薄、小、密的方向發展,印制電路企業面l晦降低價格的壓力,新型高分辨率的液體光致抗蝕劑的出現,以及液體光致抗蝕劑的涂覆設備具有連續大規模生產的能力,使其在印制電路光致成像領域又重新獲得了發展。
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